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		<title>シリコーン on Soft Glow Infrared Heating</title>
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				<title>シリコーンシーラント硬化赤外線</title>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-glow.com/images/188f9035a5ed66fdec335fe67762e522.png&#34; alt=&#34;シリコーンシーラント硬化赤外線&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;h1 id=&#34;絶縁ガラスラインにおける第二シール工程は生産速度とリスクが交差する箇所ですシリコーンは速やかな加熱が必要ですがその熱が均一でないと未硬化のビードや熱応力が発生し多量の手直し作業を招きます当社の赤外線硬化モジュールは理論ではなく実際の生産現場のトレードオフに対応できるよう設計されています&#34;&gt;絶縁ガラスラインにおける第二シール工程は、生産速度とリスクが交差する箇所です。シリコーンは速やかな加熱が必要ですが、その熱が均一でないと未硬化のビードや熱応力が発生し、多量の手直し作業を招きます。当社の赤外線硬化モジュールは理論ではなく実際の生産現場のトレードオフに対応できるよう設計されています。&lt;/h1&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;解析すべき技術仕様&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;短波赤外線エミッターを狙いを絞った直視ライン構成で運用しています。エネルギーはシリコーンに直接照射され、フレーム全体を加熱板のように熱することはありません。これにより、一般的なシリコーン硬化温度域内に収まる厳密に制御された熱プロファイルが得られ、必要な表面温度に数秒で到達することが多いです。出力はライン速度に連動し、ビームパターンはシール経路全体を均一にカバーするよう成形されています。これにより、コア部が柔らかいまま表面が気泡を含んだり皮膜状になることがありません。装置は一般的なIGシーリングステーションにそのまま組み込め、標準的なマウントと配線により切替時間は1時間未満で済みます。&lt;/p&gt;</description>
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